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doi:10.22028/D291-24649
Title: | Entwicklung von passiven und aktiven, planaren SiO2 Wellenleitern auf Silicium mittels rapid thermal annealing |
Author(s): | Mennig, Martin Gier, Andreas Berni, Anette Schmidt, Helmut K. |
Language: | German |
Year of Publication: | 1999 |
OPUS Source: | Kurzreferate / 73. Glastechnische Tagung, Halle (Saale), vom 31. Mai bis 2. Juni 1999 / Deutsche Glastechnische Gesellschaft e.V. — Frankfurt/Main, 1999, S. 277-280 |
SWD key words: | Wellenleiter Silicium Tempern |
DDC notations: | 620 Engineering and machine engineering |
Publikation type: | Conference Paper |
Abstract: | - |
Link to this record: | urn:nbn:de:bsz:291-scidok-29701 hdl:20.500.11880/24705 http://dx.doi.org/10.22028/D291-24649 |
Date of registration: | 1-Sep-2010 |
Faculty: | SE - Sonstige Einrichtungen |
Department: | SE - INM Leibniz-Institut für Neue Materialien |
Collections: | INM SciDok - Der Wissenschaftsserver der Universität des Saarlandes |
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